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J-GLOBAL ID：200903047015185327

X線分析装置

Inventor：
小 関 雅 人

About 小 関 雅 人

, 
雨 宮 將 美

About 雨 宮 將 美


Applicant, Patent owner：
日本電子エンジニアリング株式会社

About 日本電子エンジニアリング株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002218126
Publication number (International publication number)：2004061223
Application date： Jul. 26, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：
【課題】プラスチック中の微量カドミウムの量を正確に測定できるX線分析装置を提供する。【解決手段】Rhターゲットを有するX線管5と、プラスチック試料4間に、X線フィルタ6が配置されている。第1X線フィルタ6aはジルコニウムからなり、第2X線フィルタ6bは銅からなり、第3X線フィルタ6cはモリブデンからなる。第1フィルタ6aの厚さは100μm程度、第2フィルタ6bの厚さは200μm程度、第3フィルタ6cの厚さは40μm程度である。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
X線管からの1次X線を試料に照射し、その1次X線照射によって試料から発生した2次X線を検出して試料分析を行うようにしたX線分析装置において、 次の構成要素(a),(b),(c)を備えたX線フィルタを、前記X線管と前記試料との間に配置したことを特徴とするX線分析装置 (a)前記X線管からの1次X線を濾波する第1X線フィルタ (b)前記第1X線フィルタを透過したX線を濾波する第2X線フィルタ (c)前記第2X線フィルタを透過したX線を濾波する第3X線フィルタ。
IPC (1)：
G01N23/223
FI (1)：
G01N23/223
F-Term (12)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001GA01 ,  2G001HA01 ,  2G001JA01 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001LA05 ,  2G001NA11 ,  2G001NA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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