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J-GLOBAL ID：200903047023127506
ベーク装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998349501
Publication number (International publication number)：2000173883
Application date： Dec. 09, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：
【要約】【課題】 ベーク装置の蓋の交換・洗浄の必要をなくし、蓋の交換・洗浄のためのベーク装置の動作停止の期間を少なくし、昇華物の付着によるパターン不良の発生を押さえることが可能なベーク装置の実現を課題とする。【解決手段】 半導体ウェーハを加熱するホットプレート2を備えたベークユニットと、このベークユニットに交換可能に設けられ処理対象半導体ウェーハ7に塗布された薬液からの昇華物を回収するダミーウェーハ5と、この昇華物を回収したダミーウェーハ5を洗浄して再生するためのクリーニングユニットとを設ける。
Claim (excerpt)：
薬液を塗布した半導体ウェーハを加熱することによって薬液中の溶剤成分を昇華させ、この半導体ウェーハに均一な厚みの塗布膜を形成するベーク装置において、前記半導体ウェーハを加熱するベークユニットと、このベークユニットに交換可能に設けられ前記半導体ウェーハに塗布された前記薬液からの昇華物を回収する回収手段と、この昇華物を回収した回収手段を洗浄して再生するためのクリーニングユニットとを具備することを特徴とするベーク装置。
F-Term (2)：
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