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J-GLOBAL ID：200903047029908097

X線断層撮影方法及び装置

Inventor： 河合 浩之 ,  馬場 理香 ,  岡島 健一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立メディコ
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999332279
Publication number (International publication number)：2001145622
Application date： Nov. 24, 1999
Publication date： May. 29, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】X線断層撮影装置において、被検体計測時におけるX線照射・計測条件の変化に影響されず常に良質な再構成画像を得るための投影データ補正手段。【解決手段】計測部1と、画像再構成を行なうデータ処理部2と、制御部3とを含む。制御部3にはX線照射・計測条件記録手段15が、前処理部10には投影データ補正手段16が設けられている。X線照射・計測条件記録手段15は、計測に際してのX線照射・計測条件、すなわちX線源(X線管)5からX線を照射する際のX線管電流,X線照射パルス幅及び二次元X線検出器6の検出感度を記録する。投影データ補正手段16は、X線照射・計測条件記録手段15に記録されているX線照射・計測条件を示すパラメータを基に投影データの補正処理を行ない、X線管電流,X線照射パルス幅及び二次元X線検出器6の検出感度に比例する計測データのゲイン変化を補正する。

Claim (excerpt)：

被検体に照射するX線を放射するためのX線源と、上記被検体を透過したX線を投影データとして検出するために上記X線源に対向して配置された二次元X線検出器と、上記X線源と上記二次元X線検出器とを搭載して上記被検体の回りを回転するスキャナ部と、上記X線源による上記被検体へのX線の照射条件と上記二次元X線検出器による上記投影データの計測条件とを記録するための記録手段と、上記記録手段に記録された上記X線の照射条件と上記投影データの計測条件とを使用して上記二次元X線検出器により計測された上記投影データを補正するための補正手段とを具備してなることを特徴とするX線断層撮影装置。

IPC (2)：

A61B 6/03 321 ,  A61B 6/03 350

FI (2)：

A61B 6/03 321 Q ,  A61B 6/03 350 F

F-Term (15)：

4C093AA22 ,  4C093BA03 ,  4C093CA05 ,  4C093CA13 ,  4C093EA02 ,  4C093EB02 ,  4C093EB13 ,  4C093EB17 ,  4C093FA18 ,  4C093FA23 ,  4C093FA59 ,  4C093FA60 ,  4C093FC12 ,  4C093FC23 ,  4C093FE06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• X線装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-004986   Applicant：株式会社日立メディコ
• 特開平2-068043