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J-GLOBAL ID：200903047046687177

気相グラフト反応法

Inventor： 荒川 幸晴 ,  大豊 武彦
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992014484
Publication number (International publication number)：1993209071
Application date： Jan. 30, 1992
Publication date： Aug. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高い透水性能を維持し、しかも微粒子や細菌の除去、陽イオン、陰イオンあるいは錯イオンなどの特定のイオンの回収あるいは除去、特定の蛋白質や酵素の分離精製等のプロセスに高い性能を発揮する機能性多孔膜を合成するため、多孔性の基材膜全体にわたって均一に官能基を固定化する方法を提供する。【構成】 高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、高分子化合物物品に電離性放射線を照射しラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、真空吸引することにより、モノマーを強制移動させることを特徴とする気相グラフト反応方法。【効果】 気相グラフト重合において、製造上問題となっているグラフト処理斑をおさえ、その均一性を飛躍的に向上させることができる。

Claim (excerpt)：

高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、上記高分子化合物に電離性放射線を照射しラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、真空吸引することにより、モノマーを強制移動させることを特徴とする気相グラフト反応方法。

IPC (6)：

C08J 7/16 ,  C08F 2/00 MCT ,  C08F 2/34 MCF ,  C08F 2/46 MDT ,  B01D 71/78 ,  B01D 71/82 500