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J-GLOBAL ID：200903047063950868

プラズマ処理装置

Inventor： 小山 芳弘 ,  溝畑 保▲廣▼ ,  平得 貞雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995160076
Publication number (International publication number)：1996330285
Application date： Jun. 01, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 処理チャンバの内部でプラズマ発生中に発した紫外光が処理チャンバ外へ放出されるのを防止し、又は、処理チャンバ外へ放出される紫外光を減衰させ、処理チャンバの周囲でオゾンが発生しないようにし、又は、オゾンの発生を微量に抑えることができる装置を提供する。【構成】 絶縁性材料からなる処理チャンバ10の壁面92を、紫外光を透過しないか又は透過しにくい材質により形成する。

Claim (excerpt)：

絶縁性材料によって壁面が形成され、ガスの導入部及び排出部を有し密閉可能な処理チャンバと、この処理チャンバの外面側に配設されたプラズマ発生部材と、このプラズマ発生部材に高周波電圧を印加する高周波電源と、前記処理チャンバの内部へ前記ガス導入部を通して処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記処理チャンバの内部を、前記排出部を通して真空排気する真空排気手段とを備えたプラズマ処理装置において、前記処理チャンバの壁面の全部又は一部を、紫外光を透過しないかもしくは透過しにくい材質により形成し、又は、処理チャンバの壁面の全部又は一部に紫外光を透過しないかもしくは透過しにくい被膜を塗布形成しもしくは貼着したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 L