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J-GLOBAL ID：200903047088947373

循環流動接触反応方法及びその装置

Inventor： 植村 文彦 ,  杉山 秀樹 ,  長沢 知恵子 ,  皆見 武志 ,  浜戸 一彦
Applicant, Patent owner： 千代田化工建設株式会社
Agent (1)： 赤野 牧子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993105101
Publication number (International publication number)：1994285364
Application date： Apr. 07, 1993
Publication date： Oct. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 気液接触または気固液接触反応において、反応物の接触効率の向上を図り、固体触媒を用いても触媒を破壊することのない接触反応方法及び装置の提供。【構成】 気液接触または気固液接触反応において、接触反応相に反応原料ガス成分を導入して反応相の上昇流及び下降流を生じさせ、該反応相内に循環流動を形成することを特徴とする循環流動接触反応方法。上記方法を安定的に行うための反応槽であって、垂直方向に延びた隔壁により2以上の区域に区分され、各区域は上部及び下部において連通すると共に、隣接する区域のいずれか一方の底部にガス吹込み口を配置し、且つ、該反応槽の最下部には液供給口を設置し、該反応槽の最上部にはガス貯留空間部をそれぞれ設置し、連通する該上部に液抜出し口及び該ガス貯留空間部にガス抜出口を配置することを特徴とする循環流動接触反応装置。

Claim (excerpt)：

気液接触または気固液接触反応において、接触反応相に反応原料ガス成分を導入して反応相の上昇流及び下降流を生じさせ、該反応相内に循環流動を形成することを特徴とする循環流動接触反応方法。

IPC (4)：

B01J 19/00 311 ,  B01F 3/04 ,  B01J 10/00 104 ,  C07C 31/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭54-117379
  
• 特開昭54-063457
  
• 特開昭50-077584