Pat
J-GLOBAL ID：200903047127521133
光点位置計測方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 晴敏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994051399
Publication number (International publication number)：1995234105
Application date： Feb. 23, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：
【要約】【目的】 光点位置計測の超高精度化を図る。【構成】 光点位置計測方法はシリンドリカルレンズ1とCCDイメージセンサ2と画像処理演算器3を利用している。シリンドリカルレンズ1を用いて測定対象となる光点4を基準軸方向と交差する線状像5に変換する。CCDイメージセンサ2を用いて線状像5を撮像し対応する画素データを生成する。画像処理演算器3を用いて画素データを処理し基準軸方向に沿った光点4の位置を算出する。かかる方法において、先ず最初に設定手順を行ない、CCDイメージセンサ2の画素アレイに対して互いに直交する主軸及び副軸を有する直交座標系を設定する。次に投影手順を行ない、主軸よりも副軸に対する角度が小さくなる様に線状像5を直交座標系に対して傾斜投影する。続いて検出手順を行ない、画素データを演算処理して線状像5の直線近似を行ない求めた直線の主軸方向一次元位置を副軸方向一次元位置として拡大検出する。最後に拡大検出結果に基いて光点4の位置を割り出す算出手順を行なう。
Claim (excerpt)：
光学変換器を用いて測定対象となる光点を所定の一次元方向と交差する線状像に変換し、画素アレイを備えた二次元撮像素子を用いて該線状像を撮像し対応する画素データを生成し、画像処理演算器を用いて該画素データを処理し該一次元方向に沿った前記光点の位置を算出する光点位置計測方法であって、該画素アレイに対して互いに直交する主軸及び副軸を有する直交座標系を設定する設定手順と、主軸よりも副軸に対する角度が小さくなる様に該線状像を直交座標系に対して傾斜投影する投影手順と、該画素データを演算処理して線状像の直線近似を行ない求めた直線の主軸方向一次元位置を副軸方向一次元位置として拡大検出する検出手順と、拡大検出結果に基いて前記光点の位置を割り出す算出手順とを行なう事を特徴とする光点位置計測方法。
IPC (2)：
Return to Previous Page
