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J-GLOBAL ID：200903047151224034

光触媒廃水処理方法

Inventor： 田中 啓一 ,  安部 桂司 ,  久永 輝明
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992173863
Publication number (International publication number)：1993337469
Application date： Jun. 08, 1992
Publication date： Dec. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 廃水中の有害物質を完全分解して無害化する。【構成】 廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射し、有害物質を分解処理する廃水処理方法。

Claim (excerpt)：

廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射して有害物質を分解処理することを特徴とする廃水処理方法。

IPC (9)：

C02F 1/32 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00