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J-GLOBAL ID：200903047164709266

水中のヒ素除去装置

Inventor： 鈴木 菜穂子 ,  宮ノ下 友明 ,  古謝 江美子
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996326811
Publication number (International publication number)：1998165948
Application date： Dec. 06, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 吸着剤を用いて水中のヒ素を吸着除去する装置であって、残留ヒ素濃度の低い良質な処理水を長期間にわたって安定に得ることができるとともに、経済的にヒ素を除去することが可能な装置を提供する。【解決手段】 粗除去用吸着剤と、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤とを用い、粗除去用吸着剤により被処理水中のヒ素の粗除去を行った後、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤により被処理水中のヒ素の最終除去を行う。例えば、2つの塔8、10の内の通水方向上流側の塔8に粗除去用吸着剤として活性アルミナ4を充填するとともに、下流側の塔10にセリウム系吸着剤6を充填し、これら2つの塔8、10に被処理水を順次通水する。

Claim (excerpt)：

吸着剤を用いて水中のヒ素を吸着除去する装置であって、粗除去用吸着剤と、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤とを用い、粗除去用吸着剤により被処理水中のヒ素の粗除去を行った後、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤により被処理水中のヒ素の最終除去を行うことを特徴とする水中のヒ素除去装置。

IPC (5)：

C02F 1/28 ZAB ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/20 ,  C02F 1/62 ZAB

FI (5)：

C02F 1/28 ZAB B ,  B01J 20/06 A ,  B01J 20/08 A ,  B01J 20/20 A ,  C02F 1/62 ZAB Z