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J-GLOBAL ID：200903047195943445

マスク、レジスト及び露光方法

Inventor： 山添 賢治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002132491
Publication number (International publication number)：2003332196
Application date： May. 08, 2002
Publication date： Nov. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 光の波長以下の一括露光を容易に行える、特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質を用いたマスク、レジスト及び露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】 特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質をエバネッセント光透光部に設けてあることを特徴としたエバネッセント光マスクを提供する。

Claim (excerpt)：

特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質をエバネッセント光透光部に設けてあることを特徴としたエバネッセント光マスク。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (5)：

G03F 1/16 A ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D

F-Term (16)：

2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025DA03 ,  2H095BA04 ,  2H095BA10 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26 ,  2H097CA15 ,  2H097FA10 ,  2H097GA45 ,  5F046AA25 ,  5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CA10 ,  5F046CB17 ,  5F046JA22