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J-GLOBAL ID:200903047204076032

液晶表示素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995211743
Publication number (International publication number):1997061829
Application date: Aug. 21, 1995
Publication date: Mar. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 液晶滴下法及び液晶注入法を用いて液晶表示素子を製造する際に、紫外線によって劣化・分解するような液晶を用いた場合でも、表示均一性の高い液晶表示素子を得ることのできる液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】 まず、第1の電極基板1の上に紫外線硬化型シール材3を所定のパターンに形成する。次いで、第1の電極基板1のシール材3で囲まれた領域に液晶4を滴下すると共に、第1の電極基板1に相対向する第2の電極基板2にギャップ制御用のスペーサー5を散布する。ここで、第2の電極基板2には、シール材3の内側の面に位置するように表面を透明な保護層15で覆われたカラーフィルター層14が形成されている。次いで、第1及び第2の電極基板1及び2を真空中で貼り合わせ、全体基板9を形成する。最後に、貼り合わせた全体基板9に、光を透過する所定のパターンを有するマスク6及び第2の電極基板2を介して紫外線ランプ8の紫外線を照射する。
Claim (excerpt):
第1又は第2の電極基板上に紫外線硬化型シール材を所定のパターンに形成し、前記第1の電極基板の前記シール材で囲まれた領域に液晶を滴下し、前記第1の電極基板に相対向する第2の電極基板にギャップ制御用のスペーサーを設け、前記第1及び第2の電極基板を真空中で貼り合わせ、貼り合わされた前記第1及び第2の電極基板に、光を透過する所定のパターンを有するマスクを介して紫外線を照射する液晶表示素子の製造方法であって、前記シール材に紫外線を照射し、前記液晶には紫外線を照射しないことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。

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