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J-GLOBAL ID：200903047205963458

蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法

Inventor： 亀山 誠 ,  沢村 光治 ,  寺田 順司 ,  坂本 淳一 ,  菅原 登
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社 ,  株式会社オプトロン
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992066041
Publication number (International publication number)：1993264804
Application date： Mar. 24, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 蒸着時に基板の温度を上げられないプラスチック等の基板に於いても、屈折率が2.0以上の光学薄膜が形成され、蒸着の際の製膜速度も充分な速さであり、かつ得られた光学薄膜の品質が高くなる様な、蒸着材料を提供する。【構成】 チタニウム(Ti)と酸素(O)のモル比A(O/Ti)が1.0〜1.75の酸化チタンと、酸化ジルコニウム(ZrO2)とを、チタニウム(Ti)とジルコニウム(Zr)とのモル比(Ti/Zr)が1.0〜4.0の割合で混合し、焼結又は溶融固化して蒸着材料を形成する。

Claim (excerpt)：

チタニウム(Ti)と酸素(O)のモル比A(O/Ti)が1.0〜1.75の酸化チタン(TiOA)と、酸化ジルコニウム(ZrO2)とを、チタニウム(Ti)とジルコニウム(Zr)とのモル比(Ti/Zr)が1.0〜4.0の割合で混合し、焼結又は溶融固化してなることを特徴とする蒸着材料。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-197867
  
• 特開昭55-038920