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J-GLOBAL ID：200903047209167346

残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエ-テル変性ポリシロキサン組成物とその製造方法

Inventor： 日野 賢一 ,  野田 功
Applicant, Patent owner： 日本ユニカー株式会社
Agent (1)： 河備 健二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999179433
Publication number (International publication number)：2000026737
Application date： Dec. 21, 1995
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：

【要約】【目的】 残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物とその製造方法の提供。【構成】 残存白金触媒が0.5ppm以下にまで除去された無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物は、末端に炭素-炭素二重結合を有するポリオキシアルキレンとヒドロポリシロキサンとのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性ポリシロキサン組成物に、水素添加反応を行った後、濾過手段により該組成物中に残存する白金触媒を除去することによって提供される。【効果】 本発明の残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物は、臭気および刺激性等が非常に少ない、かつ保存安定性に優れているので、皮膚化粧料等に用いられる。

Claim (excerpt)：

末端に炭素-炭素二重結合を有するポリオキシアルキレンとヒドロポリシロキサンとのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性ポリシロキサン組成物であって、該組成物中に残存する白金触媒が0.5ppm以下にまで除去されていることを特徴とする、無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物。

IPC (7)：

C08L 83/12 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/027 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50 ,  C08G 77/46

FI (7)：

C08L 83/12 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/027 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50 ,  C08G 77/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭56-005414
  
• 特公昭61-005486
  
• 特開平2-302438