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J-GLOBAL ID：200903047219926210

スパッタリング装置

Inventor： 鈴木 すすむ ,  清水 潤一 ,  鈴木 巧一
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992160151
Publication number (International publication number)：1993331634
Application date： May. 27, 1992
Publication date： Dec. 14, 1993
Summary：

【要約】【構成】真空室内に配置したカソード2に断続的な直流電圧を印加する直流電源1を設けたスパッタリング装置。さらに、カソード周辺にプラズマを供給可能なプラズマガンを設けることもできる。【効果】反応性スパッタを行うような場合でもアーキングの発生頻度を低減することができ、より多くの電力を安定してカソードに投入することができる。

Claim (excerpt)：

真空室内に配置したカソードに断続的な直流電圧を印加する直流電源を設けたことを特徴とするスパッタリング装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭64-015370
  
• 特開昭61-041766
  
• 特開平2-050955
  
• 特開昭63-266061