Pat

J-GLOBAL ID：200903047220552472

プラズマ処理装置

Inventor： 片山 克生
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992245892
Publication number (International publication number)：1994069161
Application date： Aug. 20, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マイクロ波の伝播モード夫々に対して電界分布を均一化し、プラズマ密度の均一化を図る。【構成】 マイクロ波導入窓8をマイクロ波透過物質からなる円板部8a及びこれとレンズ部8bにて構成し、レンズ部8bの形状, 肉厚をx方向(H面方向)とy方向(E面方向)に対して夫々変化させるべくテーパ面8c,8c を構成する。

Claim (excerpt)：

マイクロ波導波管からプラズマ生成室へマイクロ波を導入するマイクロ波導入部分に、マイクロ波をプラズマ生成室に均一に導入すべくマイクロ波の伝播方向に垂直な面内であって直交する方向夫々の断面形状を異ならせた誘電体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-171720
  
• 特開平3-274696
  
• 特開平3-244123