Pat

J-GLOBAL ID：200903047283018336

コポリマー及びその製法

Inventor： レカイ ゼチ ,  ホルスト ボルンデルフアー ,  ヘルムート アーネ ,  ジークフリート ビルクレ ,  エバーハルト キユーン ,  ライナー ロイシユナー ,  エフア リツセル ,  ミヒアエル ゼバルト
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 富村 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991353046
Publication number (International publication number)：1993009231
Application date： Dec. 18, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高解像能のレジスト用ベースポリマーとして使用することのできる新規のコポリマーを提供する。【構成】 不飽和カルボン酸の第三ブチルエステル40〜99モル%と不飽和カルボン酸の無水物1〜60モル%とからなる。

Claim (excerpt)：

不飽和カルボン酸の第3ブチルエステル(成分A)40〜99モル%と不飽和カルボン酸の無水物(成分B)1〜60モル%とから構成されていることを特徴とするコポリマー。

IPC (10)：

C08F220/18 MMB ,  C08F212/32 MJY ,  C08F220/18 MLZ ,  C08F222/06 MJW ,  G03F 7/004 515 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027