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J-GLOBAL ID：200903047295133491

プラズマデイスプレイ基板の厚膜パターン形成方法

Inventor： 藤井 英明
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 土井 育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991205583
Publication number (International publication number)：1993128966
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【構成】 基板1の上に予めパターン形成材料2を所定の膜厚で塗布し、所望パターンに応じたサンドブラスト用マスク6を介してサンドブラスト7により不要部分を除去することで目的パターンを形成する。1回の操作により100μm以上のパターンが得られる。サンドブラスト用マスク6は、フォトレジスト3をフォトリソグラフィー法により加工して形成することができ、これにより高精細パターンの対応ができる。

Claim (excerpt)：

プラズマディスプレイの基板上に障壁パターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、所望パターンに応じたサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とするプラズマディスプレイ基板の障壁パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。

IPC (2)：

H01J 9/14 ,  H01J 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-301934
  
• 特開平3-294180
  
• 特開平3-086477