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J-GLOBAL ID：200903047296291490
微細パターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
秋田 収喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997169743
Publication number (International publication number)：1999016817
Application date： Jun. 26, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：
【要約】【課題】 コマ収差の影響を受けることなく正確な位置合わせを行う。【解決手段】 光縮小投影露光装置により試料上に複数の露光歪み測定用マークを形成し、前記露光歪み測定用マークの位置を測定するとともに前記光縮小投影露光装置による露光歪み量を予め求めておき、各パターンの形成の際に上記求められた露光歪みを補正する微細パターン形成方法において、前記露光歪み測定用マークを前記光縮小投影露光装置によって形成する実素子パターンとほぼ同一のパターンで形成することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
光縮小投影露光装置により試料上に複数の露光歪み測定用マークを形成し、前記露光歪み測定用マークの位置を測定するとともに前記光縮小投影露光装置による露光歪み量を予め求めておき、各パターンの形成の際に上記求められた露光歪みを補正する微細パターン形成方法において、前記露光歪み測定用マークを、該光縮小投影露光装置のレンズのコマ収差に起因する位置ずれが該光縮小投影露光装置によって形成する実素子パターンの位置ずれとほぼ同じになるパターンで形成することを特徴とする微細パターン形成方法。
FI (2)：
H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 541 K
