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J-GLOBAL ID：200903047299024271

プラズマリアクタ

Inventor： 安藤 和夫 ,  小谷 耕爾 ,  鳥居 稔 ,  堂坂 健児 ,  藤代 秀行 ,  弥延 剛
Applicant, Patent owner： 本田技研工業株式会社 ,  北辰工業株式会社
Agent (1)： 落合 健 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000139488
Publication number (International publication number)：2001314748
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Nov. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高い電源電圧を必要とせずに、一対の電極に挟まれた領域の全体に必要かつ充分な平均電流密度のプラズマを形成し、ガスの改質を効率的に行うことができるプラズマリアクタを提供する。【解決手段】 ガスを改質するプラズマリアクタPRは、相対向する一対の電極E1,E2と、両電極E1,E2間に配置された誘電体Dと、両電極E1,E2に交流電流またはパルス電流を印加する電源Pとを備え、両電極E1,E2間のギャップGを流れるガスにプラズマを発生させて改質を行う。ギャップGに発生するプラズマの平均電流密度Irdを、10-4A/cm2 ≦Ird≦10-1A/cm2 の範囲に設定することにより、集中放電およびバリア放電を同時に発生させ、ギャップGの全域にガスの改質を効率的に行うに足りる充分な平均電流密度Irdのプラズマを形成する。

Claim (excerpt)：

相対向する一対の電極(E1,E2)と、一対の電極(E1,E2)間に配置された誘電体(D)と、一対の電極(E1,E2)に交流電流またはパルス電流を印加する電源(P)とを備え、一対の電極(E1,E2)間のギャップ(G,G1,G2)を流れるガスにプラズマを発生させて改質を行うプラズマリアクタにおいて、発生するプラズマの平均電流密度Irdが、10-4A/cm2 ≦Ird≦10-1A/cm2であることを特徴とするプラズマリアクタ。

IPC (2)：

B01J 19/08 ,  H05H 1/24

FI (2)：

B01J 19/08 E ,  H05H 1/24

F-Term (7)：

4G075AA03 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FC15