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J-GLOBAL ID:200903047303175506

荷電粒子治療装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高崎 芳紘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992106209
Publication number (International publication number):1993277197
Application date: Mar. 31, 1992
Publication date: Oct. 26, 1993
Summary:
【要約】【目的】 荷電粒子を用いた治療装置において、荷電粒子の患者での軌跡を制御して、病巣部への集中的な照射を実現したい。【構成】 患者を挟んで荷電粒子軌跡制御用の磁界をかけて、病巣部へ荷電粒子を照射させる。この場合、磁界は、荷電粒子毎、及びその軌跡毎に予め設定した磁界(磁束)パターンに従って行う。
Claim (excerpt):
患者の病巣部への照射用荷電粒子を放出する照射ヘッドと、患者内の荷電粒子軌道を制御して病巣部への集中照射を行わせる磁場印加手段と、より成る荷電粒子治療装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-320073

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