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J-GLOBAL ID:200903047354913730

MRI装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 外川 英明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002099508
Publication number (International publication number):2003290171
Application date: Apr. 02, 2002
Publication date: Oct. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】 スライス領域の設定およびサチュレーション領域の設定等の効率を上げることにより、撮影に際してスムーズに設定が可能なMRI装置を提供することを目的する。【解決手段】 予め撮影され、表示装置13に表示されているサジタル画像上で、入力器14から、第1の点および第2の点を指定可能とし、第1の点および第2の点に基づいて自動的に、互いに平行で隣接するスライス領域を設定し、制御装置7を介して、前記スライス領域の撮影を行う。また、第1、第2の点に連続して第3及び第4の点も指定可能とし、これによって設定されたスライス領域も合わせて撮影を行う。
Claim (excerpt):
被検体の第1の断層像と略直行する複数の第2の断層像を前記第1の断層像上に設定された複数のスライス領域それぞれに基づいて撮影するMRI装置において、前記スライス領域の数を設定する設定手段と、前記第1の断層像上に第1の点および第2の点を指定可能な指定手段と、前記指定された第1および第2の点に基づいて前記設定された数のスライス領域をそれぞれ隣接して略並行に配置する撮影領域決定手段と、を具備したことを特徴とするMRI装置。
IPC (2):
A61B 5/055 ,  G01R 33/32
FI (2):
A61B 5/05 380 ,  G01N 24/02 520 Y
F-Term (9):
4C096AB36 ,  4C096AB38 ,  4C096AD06 ,  4C096AD07 ,  4C096BA20 ,  4C096BB13 ,  4C096BB14 ,  4C096BB16 ,  4C096BB19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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