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J-GLOBAL ID：200903047400547337

レーザーによる除染方法

Inventor： 上原 実 ,  金沢 祐孝 ,  山口 滋 ,  柴田 章司
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994246054
Publication number (International publication number)：1996110396
Application date： Oct. 12, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 除染と同じレーザー照射装置を利用して、ドライな状態で、除染と改質層の形成が行えるレーザーによる除染方法を提供する。【構成】 除染を行う材料15に第1のレーザー光LB を照射して放射性酸化物層20を除去した後、その放射性酸化物層20を除去した材料表面に第2のレーザー光LA を照射すると共に酸化剤などの改質材を供給して表面改質層21を形成するようにしたことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

除染を行う材料に第1のレーザー光を照射して放射性酸化物層を除去した後、その放射性酸化物層を除去した材料表面に第2のレーザー光を照射すると共に酸化剤などの改質材を供給して表面改質層を形成することを特徴とするレーザーによる除染方法。

IPC (3)：

G21F 9/28 551 ,  G21F 9/28 ZAB ,  B23K 26/00