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J-GLOBAL ID：200903047404384653

スペース部吸光性基板の製法

Inventor： 山添 博司
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 松田 正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992263742
Publication number (International publication number)：1994118218
Application date： Oct. 01, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 低コストで、単純な工程で処理でき耐熱性の課題も無い、スペース部吸光性基板の製法を提供すること。【構成】 基板1のスペース部4に、ビス-ベンゼン-遷移金属錯体層、またはビス-シクロペンタジエニル-遷遷移金属錯体層5を形成する工程と、これを酸化することにより遷移金属の酸化物層6を形成する工程とを備えたスペース部吸光性基板の製法であって、これにより表示装置用基板において、遷移金属錯体を酸化させ、サイドエッチ部に吸光層を同時に作り込み、コントラストを上げる。

Claim (excerpt)：

基板のスペース部に、遷移金属錯体層を形成する工程と、これを酸化することにより遷移金属の酸化物層を形成する工程とを備えたことを特徴とするスペース部吸光性基板の製法。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335