Pat
J-GLOBAL ID：200903047406391100
プラズマ溶射装置および方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992243834
Publication number (International publication number)：1994076986
Application date： Sep. 14, 1992
Publication date： Mar. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】固体素地への成膜が1cm以下の範囲まで制御可能な装置および方法を提供する。【構成】プラズマを発生させるための電極対を備えプラズマ熱によって溶融した原料粉末5をプラズマジェット4とともに射出させるプラズマトーチ1と、電極対にパルス電圧を印加するパルス電源11と、プラズマに作動ガス10を吹き付けプラズマジェット4を形成させるガス吹付部15と、プラズマジェット4に原料粉末5を投入する粉末投入部14とにより構成される。
Claim (excerpt)：
プラズマを発生させるための電極対と、この電極対に並列接続される電源と、プラズマに作動ガスを吹き付けプラズマジェットを形成させるガス吹付け部と、プラズマジェットに原料粉末を投入する粉末投入部と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末をプラズマジェットとともに射出させる射出ノズルとにより構成されたものにおいて、前記電源がパルス的に電圧を出力するパルス電源であることを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (3)：
H05H 1/42
, C23C 4/00
, H05H 1/36
