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J-GLOBAL ID：200903047409148230

荷電粒子線転写装置

Inventor： 中筋 護
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993221284
Publication number (International publication number)：1995078735
Application date： Sep. 06, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 磁気レンズの大きさと転写精度とを実用上十分なレベルでバランスさせることができる荷電粒子線転写装置を提供する。【構成】 マスク1を透過した荷電粒子線をマスク側磁気レンズ2および試料側磁気レンズ3により試料4上に結像させる荷電粒子線転写装置において、マスク側磁気レンズ2のマスク1側でのボーア半径R2を、マスク1上での視野半径r1の2.8倍以下とし、試料側磁気レンズ3の試料4側でのボーア半径R3を、試料4上での視野半径r4の2.8倍以下に設定する。また、磁極22Aの試料側側面23とマスク1との光軸方向の距離Zaをボーア半径R2の1/2〜2倍の範囲に設定し、磁極32Bのマスク側側面33と試料4との光軸方向の距離Zbをボーア半径R3の1/2〜2倍の範囲に設定する。

Claim (excerpt)：

マスクを透過した荷電粒子線をマスク側磁気レンズおよび試料側磁気レンズにより試料上に結像させる荷電粒子線転写装置において、前記マスク側磁気レンズの前記マスク側でのボーア半径を、前記マスク上での視野半径の2.8倍以下とし、前記試料側磁気レンズの前記試料側でのボーア半径を、前記試料上での視野半径の2.8倍以下に設定したことを特徴とする荷電粒子線転写装置。