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J-GLOBAL ID：200903047418648793

レジスト組成物

Inventor： 金子 勇 ,  武部 洋子 ,  川口 泰秀 ,  岡田 伸治 ,  児玉 俊一
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001108765
Publication number (International publication number)：2002303982
Application date： Apr. 06, 2001
Publication date： Oct. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。【解決手段】含フッ素ジオレフィン(a)(例えばCF2=CFCF2CH2CH2CH=CH2)に基づく環化重合単位とブロック化された酸性基を有するモノマー(b)(例えばCF2=CFO(CF2)3COOC(CH3)3)に基づく重合単位とを含有する含フッ素重合体(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)及び有機溶媒(C)を含有するレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記式(1)で示される含フッ素ジオレフィン(a1)に基づく環化重合単位と酸により開裂するブロック化剤によりブロック化された酸性基を有するモノマー(a2)に基づく重合単位とを含有する含フッ素重合体(A)の100質量部に対し、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)の0.1〜20質量部及び有機溶媒(C)の100〜1000質量部を含有することを特徴とするレジスト組成物。CF2=CR1QCR2=CH2 ・・・(1)ここで、R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Qは炭素数2〜5個の2価有機基である。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F216/12 ,  C08F236/20 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F216/12 ,  C08F236/20 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AD13Q ,  4J100AE09Q ,  4J100AE78P ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ03Q ,  4J100AS13P ,  4J100BA03 ,  4J100BB07 ,  4J100BB12 ,  4J100BB18 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38