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J-GLOBAL ID：200903047459200306

処理装置

Inventor： 輿水 地塩
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992038507
Publication number (International publication number)：1993206078
Application date： Jan. 29, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光学系に通過する発光強度の損失量を大幅に減少させる。【構成】 処理手段2からの発光をモニタするモニタ手段4を有する処理装置において、上記モニタ手段4の前段に、集光レンズ40を有する光学系3を設ける。そして、この集光レンズ40にて集めた光を、光ファイバ等の光吸収性を有する光案内媒体を何ら通過させることなく直接光電変換器48,52へ導入する。これにより、発光量の途中での損失を大幅に減少させる。

Claim (excerpt)：

処理手段からの発光をモニタするモニタ手段を有する処理装置において、前記モニタ手段の前段に、前記処理手段からの発光を集光する集光レンズと前記集光レンズからの光を光案内媒体を用いることなく直接導入して光電変換する光電変換器とを有する光学系を備えるように構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-025418
  
• 特開昭56-133466
  
• 特開平2-224330