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J-GLOBAL ID:200903047460877891

真空積層プレス装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 中島 三千雄 (外2名) ,  中島 三千雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994277783
Publication number (International publication number):1996132531
Application date: Nov. 11, 1994
Publication date: May. 28, 1996
Summary:
【要約】【目的】 積層体間における残留気泡の発生が防止される真空積層プレス装置を提供すること。【構成】 カバーフィルム20の処理室40への送入口16を、該処理室40に搬入配置された被着基材18の表面よりも可撓性膜34側に位置せしめることにより、それら被着基材18とカバーフィルム20の間に空間が形成されるようにした。
Claim (excerpt):
ケースの内部に形成された密閉空間を可撓性膜で仕切り、該可撓性膜を挟んだ両側に、圧力制御可能な作用室と被着基材が搬入される減圧可能な処理室とを画成すると共に、該処理室に接着シート材を連続的に給排するための送入口および送出口を設け、かかる処理室で前記被着基材を加熱すると共に、該被着基材に前記接着シート材を重ね合わせて、それら被着基材と接着シート材に対し、前記処理室と前記作用室の圧力差に基づく加圧力を前記可撓性膜を介して及ぼすことにより、該被着基材と該接着シート材を積層一体化せしめる真空積層プレス装置において、前記ケースにおける前記接着シート材の送入口を、前記処理室に搬入配置された前記被着基材の表面よりも前記可撓性膜側に位置せしめて、該処理室に搬入配置された該被着基材と該処理室に供給された該接着シート材との間に空間が形成されるようにしたことを特徴とする真空積層プレス装置。
IPC (5):
B29C 65/48 ,  B30B 12/00 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/38 ,  B29L 9:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 特公昭55-013341
  • 特開昭63-295218
  • 特開昭63-299895
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