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J-GLOBAL ID：200903047469257888

[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミンおよびその利用方法

Inventor： 山 岡 亜 夫 ,  葛 葉 昇
Applicant, Patent owner： アイバイツ株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993133244
Publication number (International publication number)：1994345711
Application date： Jun. 03, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【構成】 本発明に係る[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミンは、【化1】で表される新規化合物である。【効果】 本発明によれば、上記の新規化合物が提供される。この化合物は、露光部と非露光部の特性のバランスが良く、解像度に優れ、ネガ・ポジ両用型レジストとして使用可能なパターン形成材料の成分として有用である。

Claim (excerpt)：

下記式にて示される[[(2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン。【化1】

IPC (2)：

C07C271/24 ,  C09D 4/00 PEN