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J-GLOBAL ID:200903047512402757

レーザ刻印装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 橋爪 良彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992142043
Publication number (International publication number):1993309482
Application date: May. 08, 1992
Publication date: Nov. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 たとえ寸法や重量が異なるワークであっても、また同一ワークであっても、これらワークの設置ずれに係わらず、かつ、手数をかけることなく、当該刻印目標位置にパターンを高精度に印字又は刻印できるレーザ印字装置を提供する。【構成】 少なくともレーザ発振器1と、所望パターンPを表示する液晶マスク2と、ワーク3を撮像するカメラ4と、制御器5とを備え、該制御器5は、刻印基準ワーク3o の特徴部位置座標ds と、該刻印基準ワーク3o の刻印目標位置座標dp とを予め記憶し、各ワーク3i の刻印前毎に、カメラ4で撮像したワーク3i の特徴部位置座標di を求め、前記特徴部位置座標ds と該特徴部位置座標di との差δsiに前記刻印目標位置座標dp を加算してなる位置座標Di を求め、液晶マスク2上の該位置座標Di にパターンPを表示させた後、レーザ発振器1を発振させて該パターンPへレーザ光Lo を照射し、その透過レーザ光L1により、該ワーク3i 上に該パターンPを刻印させてなる構成とした。
Claim (excerpt):
少なくともレーザ発振器1と、所望パターンPを表示する液晶マスク2と、ワーク3を撮像するカメラ4と、制御器5とを備え、該制御器5は、刻印基準ワーク3o の特徴部位置座標ds と、該刻印基準ワーク3o の刻印目標位置座標dp とを予め記憶し、各ワーク3i の刻印前毎に、カメラ4で撮像したワーク3i の特徴部位置座標di を求め、前記特徴部位置座標ds と該特徴部位置座標di との差δsiに前記刻印目標位置座標dp を加算してなる位置座標Di を求め、液晶マスク2上の該位置座標Di にパターンPを表示させた後、レーザ発振器1を発振させて該パターンPへレーザ光Lo を照射し、その透過レーザ光L1 により、該ワーク3i 上に該パターンPを刻印させてなる構成を特徴とするレーザ刻印装置。
IPC (3):
B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  G01B 11/00

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