表面分析装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：篠原泰司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992094508
Publication number (International publication number)：1993290796
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】非破壊で試料表面の元素を二次元分析できる。【構成】YAGレーザー光源23を真空容器24内のターゲット25に照射して白色のX線を発生させることで、レーザープラズマ光源を構成する。このX線は分光器36で波長選別されて、軟X線結像素子28により、試料27に集光する。試料表面で発生する2次イオンの軌道上に質量分析器30又は飛行時間分析器を配置し、2次電子増倍管で2次イオンを検出して質量分析を行う。

Claim (excerpt)：

レーザープラズマ光源と、該レーザープラズマ光源より発せられた紫外光,真空紫外光又はX線を試料表面に集光させる集光光学系と、該試料から発せられた2次イオンを検出する質量分析器又は飛行時間分析器とを備えた表面分析装置。

IPC (2)：

H01J 49/14 , G01N 23/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平3-105841
特開昭62-226048
特開昭63-173942

Show all

Return to Previous Page