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J-GLOBAL ID：200903047560616254
ドライエツチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
守谷 一雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991262404
Publication number (International publication number)：1993102089
Application date： Oct. 09, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】発光スペクトルの変化を監視することにより、正確にエッチング終点を検出することができるドライエッチング方法を提供する。【構成】エッチング時の発光スペクトルを監視し、210nm〜236nmの範囲、特に219.0nm、230.0nm、211.2nm、232.5nm及び224〜229nmのいずれかの所望波長から選ばれた所望スペクトル強度を測定することによりドライエッチングの終点を決定する。【効果】アルゴンガス等の多量の添加ガスを含む系であっても、また面積当りの被エッチング領域の狭い(開口率の低い)エッチング対象であっても、正確に生成ガスの変化を検出することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体をエッチングガスによりドライエッチングするに際し、210nm〜236nmの範囲内の所望波長から選ばれた所望スペクトル強度を測定することによりドライエッチングの終点を決定することを特徴とするドライエッチング方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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