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J-GLOBAL ID：200903047593036750

ラップ盤

Inventor：
木村 壮作

About 木村 壮作

, 
橋口 一平

About 橋口 一平


Applicant, Patent owner：
ヒーハイスト精工株式会社

About ヒーハイスト精工株式会社


Agent (5)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  篠崎 正海 ,  西山 雅也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004023866
Publication number (International publication number)：2005212069
Application date： Jan. 30, 2004
Publication date： Aug. 11, 2005
Summary：
【課題】 定盤の上下動並びに定盤及びワークの熱変形を抑制させ、加工精度を向上させることを可能とさせるラップ盤を提供する。【解決手段】 ラップ盤11は、基台13に回転可能に支持されたテーブル15と、テーブル15に垂直方向の支持を与えるための静圧軸受とを備え、テーブル15上に下定盤17が固定される。静圧軸受に圧力流体を供給するための圧力流体供給流路53がテーブル15内に設けられ、下定盤17を冷却するための定盤冷却流路75が下定盤17又はテーブル15内に設けられる。さらに、圧力流体供給流路75は、減圧手段87を介して定盤冷却流路75と連通し、圧力流体供給流路53を流れる大気圧よりも高い圧力の圧力流体を概ね大気圧に等しい圧力に減圧して定盤冷却流路75に供給する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基台に回転可能に支持されたテーブルを備え、該テーブル上に固定された定盤とワークとの間に砥粒を介在させ、回転する定盤にワークを押し付けてワークのラップ加工を行うラップ盤であって、 テーブルに垂直方向の支持を与えるための静圧軸受をさらに備え、該静圧軸受に圧力流体を供給するための圧力流体供給流路を前記テーブル内に設けると共に、前記定盤を冷却するための定盤冷却流路を前記定盤又は前記テーブル内に設け、前記圧力流体供給流路が、減圧手段を介して前記定盤冷却流路と連通し、前記圧力流体供給流路を流れる大気圧よりも高い圧力の圧力流体を概ね大気圧に等しい圧力に減圧して前記定盤冷却流路に供給するようにしたことを特徴とするラップ盤。
IPC (3)：
B24B37/00 ,  B24B37/04 ,  B24B41/047
FI (3)：
B24B37/00 J ,  B24B37/04 A ,  B24B41/047
F-Term (10)：
3C034AA07 ,  3C034BB01 ,  3C034BB07 ,  3C034CB07 ,  3C034DD10 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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