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J-GLOBAL ID：200903047604842346

枚葉式超音波処理装置

Inventor： 間島 庭司 ,  渡辺 和廣 ,  渡代 峰雄
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992113858
Publication number (International publication number)：1993315313
Application date： May. 07, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 枚葉式超音波処理装置に関し、効率の最適な超音波処理を行うことを目的とする。【構成】 枚葉式超音波処理装置10は、処理槽1と液面嵩上げ手段2から構成されており、前記処理槽1は、隔壁1aで仕切られた処理液3を溢流しながら、並設されたころコンベア4によって枚葉式に搬入・搬出される被処理物5を、底部に配設された超音波発振器6によって超音波処理するものであり、前記液面嵩上げ手段2は、被処理物5が超音波処理される際に、処理液3の液面3aから該被処理物5までの深さを、超音波発振器6によって該処理液3の中に発生した定在波6aの波長Lの1/2に相当する距離にするものであるように構成する。

Claim (excerpt)：

処理槽(1) と、液面嵩上げ手段(2) を有し、前記処理槽(1) は、隔壁(1a)で仕切られた処理液(3) を溢流しながら、並設されたころコンベア(4) によって枚葉式に搬入・搬出される被処理物(5) を、底部に配設された超音波発振器(6) によって超音波処理するものであり、前記液面嵩上げ手段(2) は、前記被処理物(5) が超音波処理される際に、前記処理液(3) の液面(3a)から該被処理物(5) までの深さを、前記超音波発振器(6)によって該処理液(3) の中に発生した定在波(6a)の波長Lの1/2に相当する距離にするものであることを特徴とする枚葉式超音波処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/12