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J-GLOBAL ID：200903047633026442

プラズマ加工装置

Inventor： 井上 潔
Applicant, Patent owner： 株式会社アイ・エヌ・アール研究所
Agent (1)： 最上 正太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992168164
Publication number (International publication number)：1995011464
Application date： May. 18, 1992
Publication date： Jan. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 反応ガスを用いたプラズマ加工装置に於て、前記反応ガスの浄化処理を容易に円滑に行えるようにする。【構成】 加工容器1内に被加工体2を挿入し、放電電源9によって電極3との間に放電によるプラズマを発生し、このプラズマに供給口1aから反応ガスを供給しながら加工する。反応ガスの排気口1cには、電磁波浄化装置12を設けて浄化処理する。その電磁波浄化装置は、テーパー反射面を形成したノズル13にテーパー面で反射を繰返すようにレンズ14によって電磁波を照射し、そこに排気口1cに連通する供給口15から反射ガスの排気を導入し、流通通過させて処理する。16はフィルタであり、17は排気ファンである。

Claim (excerpt)：

反応ガスに於ける電極と被加工体との間に電圧を印加工し、グロー放電によりプラズマを発生して加工するプラズマ加工装置に於て、前記反応ガスの排気通路に電磁波浄化装置を設けたことを特徴とするプラズマ加工装置。

IPC (10)：

C23F 4/00 ,  B01D 49/00 ,  B01D 53/34 ,  B23K 10/00 501 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/3065 ,  H01S 3/00 ,  B01D 59/34 ,  H05H 1/46

FI (2)：

B01D 53/34 Z ,  H01L 21/302 B