Pat

J-GLOBAL ID：200903047657492150

ネガ型放射線感応レジスト組成物

Inventor： 大森 克実 ,  佐藤 充 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992296579
Publication number (International publication number)：1994123968
Application date： Oct. 09, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤及び(C)酸発生剤を含有するネガ型の化学増幅型レジストに対して、(D)それぞれ3個以上のヒドロキシル基を有するベンゼン、ナフタレン及び9,10-アントラキノンの中から選ばれた少なくとも1種の化合物を配合したネガ型放射線感応レジスト組成物。【効果】 高解像度及び高感度で、かつ放射線の照射量の変化に対するレジストパターンの寸法変化量が少なく、断面形状の良好な矩形のレジストパターンが得られる。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)架橋剤及び(C)酸発生剤を含有するネガ型の化学増幅型レジストに対し、(D)それぞれ3個以上のヒドロキシル基を有するベンゼン、ナフタレン及び9,10-アントラキノンの中から選ばれた少なくとも1種の化合物を配合したことを特徴とするネガ型放射線感応レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027