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J-GLOBAL ID：200903047662780750

プラズマ発生装置

Inventor： 金沢 元一 ,  松本 治
Applicant, Patent owner： 国際電気株式会社
Agent (1)： 三好 祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992114162
Publication number (International publication number)：1993287559
Application date： Apr. 07, 1992
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】プラズマ発生装置に於いてプラズマ処理の均一性を向上させる。【構成】気密なプラズマ発生室1内に相対峙させて電極2,3を配設し、前記プラズマ発生室内に作動気体を供給して前記一対の電極にそれぞれ高周波電力4,5を印加してプラズマを発生させるプラズマ発生装置に於いて、前記電極の間隔を調整可能9とし、又作動気圧の調整を可能16とし、又プラズマ発生領域7に磁場を印加する様にし、印加する磁場の強さに応じて前記電極間隔を調整可能とし、高周波電力を調整可能とすると共に印加する磁場の強さに応じて高周波電力を調整可能とし、プラズマの発生状態に影響を及ぼす要因を調整してプラズマ処理均一性を向上させる。

Claim (excerpt)：

気密なプラズマ発生室内に相対峙させて電極を配設し、前記プラズマ発生室内に作動気体を供給して前記一対の電極にそれぞれ高周波電力を印加してプラズマを発生させるプラズマ発生装置に於いて、前記電極の少なくとも一方を移動可能とすると共に前記作動気圧供給系に作動気圧設定器を設け、作動気圧の調整を可能とすると共に作動気圧の設定に応じて前記電極間隔を調整可能としたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (8)：

C23F 4/00 ,  C23C 14/54 ,  C23C 16/50 ,  C30B 25/02 ,  C30B 25/14 ,  C30B 25/16 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46