Pat

J-GLOBAL ID：200903047675367215

真空装置

Inventor： 小美野 光明
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991356293
Publication number (International publication number)：1993175147
Application date： Dec. 24, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】真空容器と、この真空容器内を排気する排気手段11と、この排気手段及び上記真空容器間に接続される真空排気弁12とを有する真空装置において、前記真空排気弁12の開閉を行なう駆動部を、前記真空排気弁12を閉口した時に前記真空容器と前記真空排気弁とで形成される気密容器の外に設けることを特徴とする真空装置。【効果】真空処理装置における真空処理室の真空排気弁により閉塞される気密空間の中にコンタミの原因となる真空排気弁の金属ベローズを入れないことにより、半導体ウエハの重金属汚染を防止する。

Claim (excerpt)：

真空容器と、この真空容器内を排気する排気手段と、この排気手段及び上記真空容器間に接続される真空排気弁とを有する真空装置において、前記真空排気弁の開閉を行なう駆動部を、前記真空排気弁を閉口した時に前記真空容器と前記真空排気弁とで形成される気密容器の外に設けることを特徴とする真空装置。

IPC (7)：

H01L 21/205 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/30 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/31