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J-GLOBAL ID：200903047725031019

レジスト組成物

Inventor： 松野 修吾 ,  阿部 信紀 ,  杉本 達也
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994261053
Publication number (International publication number)：1996101508
Application date： Sep. 30, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 ある種の酸不安定性基を導入したビニルフェノールとメタクリレート単位のほかに、更に酸不安定性基を有しないビニルフェノール単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R<SP>1</SP>〜R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基であり、R<SP>4</SP>は次式(4)または(5)【化4】【化5】(式(4)および(5)中、R<SP>6</SP>〜R<SP>13</SP>はそれぞれ独立して水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基であり、またR<SP>6</SP>とR<SP>7</SP>、R<SP>11</SP>とR<SP>12</SP>は、それぞれ結合して環を形成していてもよい。)であり、R<SP>5</SP>は直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基である。式(1)、(2)、(3)で表される単位の比率は、k、m、nで表され、k+m+n=1、0<k<0.95、0<m<0.95、0.05≦n≦0.6、0.1≦k/(k+m)<1である。)で表される構造単位を有する重合体と活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線官能性成分とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027