Pat

J-GLOBAL ID：200903047744396885

ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法

Inventor： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188853
Publication number (International publication number)：2000026446
Application date： Jul. 03, 1998
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 220nm以下の光を用いたリソグラフィー用のフォトレジスト材料において露光光に対して透明性に優れ、かつエッチング耐性、基板密着性に優れたフォトレジスト用組成物を提供する。【解決手段】 一般式(1)で示されるラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体を含む高分子前駆体を重合して得られる重合体を含む組成物。【化1】(上式において、R1 、R2 は水素原子、またはメチル基を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表される(メタ)アクリレート誘導体。【化1】(上式において、R1 、R2 は水素原子、またはメチル基を表す。)

IPC (5)：

C07D307/77 ,  C08F 20/18 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/039 601

FI (5)：

C07D307/77 ,  C08F 20/18 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/039 601

F-Term (45)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  4C037XA02 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002ES006 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002GP03 ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA14Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100FA17 ,  4J100JA38