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J-GLOBAL ID：200903047755631290

光学素子の製造方法、光学素子の洗浄方法、光学素子およびArFエキシマレーザ露光装置

Inventor： 塩澤 正樹 ,  水垣 勉 ,  北村 郁夫 ,  佐久間 繁
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997002838
Publication number (International publication number)：1998197701
Application date： Jan. 10, 1997
Publication date： Jul. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 フッ化カルシウム結晶を素材とした光学素子の光透過性を高めることができる、製造方法を提供する。【解決手段】 フッ化カルシウム結晶を、目的とする光学素子の形状に加工して、光学素子用素材を形成する。この光学素子用素材に、酸素およびオゾンの少なくとも一方を含む雰囲気で、波長222nm光を主とする紫外線を照射する。

Claim (excerpt)：

光学素子形成用材料を目的とする光学素子の形状に加工し形成された光学素子用素材を、洗浄する工程を含む、光学素子の製造方法において、前記洗浄工程として、前記光学素子用素材に酸素およびオゾンの少なくとも一方を含む雰囲気にて波長222nmの光を主とする紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (8)：

G02B 1/12 ,  C30B 29/10 ,  C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  C01F 11/22

FI (10)：

G02B 1/12 ,  C30B 29/10 ,  C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/304 341 D ,  C01F 11/22 ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-228560