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J-GLOBAL ID：200903047766060805

基板洗浄装置

Inventor： 三由 裕一 ,  松元 道一 ,  大西 照人
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249082
Publication number (International publication number)：1994104234
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 洗浄液濃度を一定に保ち、エッチレートや洗浄効果を安定させるとともに洗浄液の揮発ガスの周辺への拡散をなくす。【構成】 半導体製造工程や液晶パネル製造工程において基板洗浄をするための基板洗浄装置であって、揮発性の薬液を含有する洗浄液を満たした洗浄処理槽1と洗浄液の液面に接するかまたは液面より下に来るようにして設けた蓋7とを有する。

Claim (excerpt)：

揮発性の薬液を含有する洗浄液を満たした洗浄処理槽と、前記洗浄液の液面に接するかまたは液面より下に来るようにして設けた蓋とを有する基板洗浄装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304