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J-GLOBAL ID：200903047787849182

クリーニングガス及びエッチングガス

Inventor： 毛利 勇 ,  田村 哲也
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997130120
Publication number (International publication number)：1998317146
Application date： May. 20, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】薄膜形成装置等に生成した不要な堆積物を除去するクリーニングガスおよびエッチングガスを提供する。【解決手段】少なくともOF2ガスを含有したガスからなる。

Claim (excerpt)：

薄膜形成装置の中に生成した堆積物をクリーニング除去するための、少なくともOF2ガスを含有したガスからなり、解離しやすく排ガス処理の容易なガス。

IPC (6)：

C23C 16/44 ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/203

FI (6)：

C23C 16/44 J ,  C23C 14/00 B ,  C23F 4/00 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 A ,  H01L 21/203 S