化合物処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高良尚志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994321734
Publication number (International publication number)：1996150315
Application date： Nov. 29, 1994
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 PCB等を熱分解や燃焼により無害化する装置をコンパクトに構成して移動可能とし、処理現場を非定常化してPCB等の一定場所への集積を防ぐ。【構成】気体の又は気化した処理対象物を第1・第2ポンプ12・16でプラズマ発生部18に加圧送給する。プラズマ発生部18は処理対象物をアーク放電により高温プラズマ化し、分解・燃焼室20内に噴出する。分解・燃焼室20内に、酸素含有ガス供給装置22から酸素含有ガスを噴射して処理対象物に混合する。バーナ24により分解・燃焼室20内を補助加熱して処理対象物の熱分解および/または燃焼に適した所定温度にほぼ維持する。分解・燃焼室20内でほぼ瞬時に処理対象物が熱分解および/または燃焼して生成した廃ガスは、第1連通管28を通じて廃ガス冷却装置30に導入し、次いで廃ガス洗浄装置40によって洗浄し、ミストセパレータ44を経て排気筒54から大気中に放出する。

Claim (excerpt)：

気体の又は気化された処理対象物をプラズマ発生部に継続的に供給する処理対象物供給手段と、プラズマ発生部に供給された前記処理対象物をアーク放電によりプラズマ化し、プラズマ化された処理対象物を分解・燃焼室内に噴出するためのプラズマ発生部と、処理対象物の分解・燃焼に要する酸素を含有する酸素含有ガスを分解・燃焼室内に供給して処理対象物に混合させるための酸素含有ガス供給手段と、プラズマ発生部から噴出した処理対象物を実質上全て熱分解および/または燃焼させる分解・燃焼室と、分解・燃焼室から廃ガスを排出するための廃ガス排出口と、廃ガス排出口から排出された廃ガスを無害化するための廃ガス処理手段とを有することを特徴とする化合物処理装置。

IPC (3)：

B01D 53/32 ZAB , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/70

FI (2)：

B01D 53/34 ZAB Z , B01D 53/34 134 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭51-117977
特開昭51-129868
特開昭55-147131

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