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J-GLOBAL ID：200903047854840241

ナノパターン形成方法、ナノパターン形成材料および電子部品の製造方法

Inventor： 斎藤 聡 ,  浅川 鋼児 ,  後河内 透
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001084993
Publication number (International publication number)：2002287377
Application date： Mar. 23, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【課題】 均一な構造を有するとともに規則性のあるナノオーダーのパターンを、安価にかつ高度に位置制御して形成可能なパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基板(1)上に、共重合ポリマーを含む樹脂層(2)を形成する工程と、前記樹脂層の所定の領域に赤外線、可視光線、紫外線または電離放射線(3)を照射する工程と、前記照射後の樹脂層に熱アニール処理を施して、前記樹脂層の未照射部(6)にミクロ相分離構造を発現させる工程とを具備することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板上に、共重合ポリマーを含む樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層の所定の領域に赤外線、可視光線、紫外線または電離放射線を照射する工程と、前記照射後の樹脂層に熱アニール処理を施して、前記樹脂層の照射部または未照射部にミクロ相分離構造を発現させる工程とを具備することを特徴とするナノパターン形成方法。

IPC (3)：

G03F 7/38 511 ,  B82B 3/00 ,  G03F 7/004 521

FI (3)：

G03F 7/38 511 ,  B82B 3/00 ,  G03F 7/004 521

F-Term (25)：

2H025AA02 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BH04 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025FA12 ,  2H025FA19 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096FA10 ,  2H096HA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-329642   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-347331   Applicant：ジェイエスアール株式会社