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J-GLOBAL ID：200903047861384081
光学部品の洗浄方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井上 義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998036588
Publication number (International publication number)：1999221536
Application date： Feb. 04, 1998
Publication date： Aug. 17, 1999
Summary：
【要約】【課題】 洗浄後に再汚染が発生しにくくなる光学部品の洗浄方法を提供すること。【解決手段】 処理室2を密閉し、処理室2内を排気ポンプ7によって排気しつつ、処理ガス源5から処理室2内にドライエアーを送り込む。これと同時に上下の低圧水銀ランプ4を点灯して、光学部品Pの上下両面を光洗浄処理する。以上の光洗浄処理を開始して所定時間に達したら、処理室2内のドライエアーを排気ポンプ7によって迅速に排気しつつ、同時に窒素ボンベ6から処理室2内に窒素ガスを導入する。適当な時間が経過した段階で、排気ポンプ7を停止させるとともに、窒素ボンベ6のバルブを閉める。そして、低圧水銀ランプ4の発光を停止させる。光学部品Pは、光学部品Pを窒素雰囲気中に適当な時間放置される。
Claim (excerpt)：
光学部品に紫外光を照射することによって当該光学部品を洗浄する光洗浄処理の終了の際に、前記光学部品を窒素雰囲気下に置くことを特徴とする光学部品の洗浄方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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