Pat

J-GLOBAL ID：200903047888843010

フォトレジスト用剥離液組成物

Inventor： 西村 洋子 ,  木村 徹 ,  井上 昌章
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (4)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002281646
Publication number (International publication number)：2004117889
Application date： Sep. 26, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【解決手段】本発明のフォトレジスト用剥離液組成物は、基板表面に形成されたフォトレジストからなる膜を、該基板から剥離させる際に用いられる剥離液組成物であって、該剥離液組成物が、下記式(1)【化1】〔式(1)中、mは2以上の整数、nは0以上の整数を表わす。〕で表わされる化合物を含有することを特徴とする。【効果】本発明によれば、厚膜のフォトレジストに対して優れた剥離性能を示し、またバンプや基板を腐食しない点でも優れているフォトレジスト用剥離液組成物を提供することができる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

基板表面に形成されたフォトレジストからなる膜を、該基板から剥離させる際に用いられる剥離液組成物において、 該剥離液組成物が、下記式(1)

IPC (2)：

G03F7/42 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F7/42 ,  H01L21/30 572B

F-Term (8)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096LA03 ,  2H096LA30 ,  5F046MA02