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J-GLOBAL ID：200903047919690560

毛髪処理剤組成物

Inventor：
吉田 克典

About 吉田 克典

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圷 隆宏

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橋本 克夫

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金田 勇

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梁木 利男

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Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001191433
Publication number (International publication number)：2002080329
Application date： Jun. 25, 2001
Publication date： Mar. 19, 2002
Summary：
【要約】【課題】 粘度の温度安定性が高く、優れた流動特性を有し、乾燥後に、毛髪をなめらかでまとまりやすくし、優れた使用感を有する毛髪処理剤組成物を提供すること。【解決手段】 下記の成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする毛髪処理剤組成物。(A)下記の一般式(1)で表される疎水変性ポリエーテルウレタン R1-{(O-R2)k-OCONH-R3[-NHCOO-(R4-O)n-R5]h}m (1)〔式中、R1、R2及びR4は、互いに同一でも異なっても良い炭化水素基を表し、R3はウレタン結合を有しても良い炭化水素基を表し、R5は直鎖、分岐鎖又は2級の炭化水素基(炭素原子数24以上)を表し、mは2以上の数であり、hは1以上の数であり、k及びnは独立に0〜1000の範囲の数である〕(B)カチオン性界面活性剤
Claim (excerpt)：
下記の成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする毛髪処理剤組成物。(A)下記の一般式(1)で表される疎水変性ポリエーテルウレタン【化1】R1-{(O-R2)k-OCONH-R3[-NHCOO-(R4-O)n-R5]h}m (1)〔式中、R1、R2及びR4は、互いに同一でも異なっても良い炭化水素基を表し、R3はウレタン結合を有しても良い炭化水素基を表し、R5は直鎖、分岐鎖又は2級の炭化水素基(炭素原子数24以上)を表し、mは2以上の数であり、hは1以上の数であり、k及びnは独立に0〜1000の範囲の数である〕(B)カチオン性界面活性剤
IPC (3)：
A61K 7/08 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075
FI (3)：
A61K 7/08 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075
F-Term (41)：
4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC112 ,  4C083AC172 ,  4C083AC241 ,  4C083AC242 ,  4C083AC251 ,  4C083AC252 ,  4C083AC292 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD412 ,  4C083AD532 ,  4C083AD572 ,  4C083AD662 ,  4C083BB06 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD27 ,  4C083DD33 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4C083FF05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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