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J-GLOBAL ID：200903047940635723

走査型露光装置及び露光方法

Inventor： 柳原 政光 ,  森 晋 ,  楢木 剛 ,  関 昌美 ,  宮崎 聖二 ,  奈良部 毅 ,  千葉 洋
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994232963
Publication number (International publication number)：1995183212
Application date： Sep. 28, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 マスクと感光基板とを複数配列した投影光学系に対して一次元方向に走査する走査型露光装置において、感光基板の伸縮による基板の形状の変化に対して転写像を補正する。【構成】 走査方向に直交する方向(Y方向)に沿って配置された複数の投影光学系3a〜3eと感光基板5との間の光路中に平行平板ガラス4a〜4eを設ける。感光基板の伸縮量(形状の変化)に応じて投影光学系の投影倍率を倍率制御装置10によって変更するとともに、駆動装置12によって平行平板ガラスを回転して光軸AX1〜AX5をX,Y方向にシフトする。

Claim (excerpt)：

光源からの光束を視野絞りを介して所定形状に整形し、該視野絞りを介した前記光束でマスク上のパターン領域の一部分を照明する複数の照明光学系と、該複数の照明光学系のそれぞれに対応して配置された複数の投影光学系とを有し、前記複数の照明光学系によって照明された複数の前記一部分の像のそれぞれを前記複数の投影光学系を介して基板上の被投影領域に投影するとともに、前記マスクと前記基板とを前記投影光学系の投影倍率に応じた速度比で所定の方向に、前記投影光学系に対して移動することによって前記パターン領域の全面を前記基板上に露光する走査型露光装置において、予め、前記基板の形状の変化を求めて記憶する記憶手段と;前記形状の変化に応じて前記複数の投影光学系のうち少なくとも1つの投影倍率を変更する倍率変更手段と;前記投影倍率の変更に応じて、前記少なくとも1つの投影光学系による前記一部分の像の位置を変更する結像位置変更手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/34 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 522 B