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J-GLOBAL ID：200903047963591944

廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収方法

Inventor： 田原 弘 ,  川井 利長 ,  鈴木 謙一郎
Applicant, Patent owner： 有限会社システム・エンジ・サービス ,  有限会社川井技術研究所 ,  有限会社田原設計コンサルタント
Agent (1)： 宮越 典明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995270754
Publication number (International publication number)：1997057060
Application date： Aug. 29, 1995
Publication date： Mar. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ガス状炭化水素の濃度を1VOL%以下にして大気中に排出するための及び吸着剤層内の異常な温度上昇を抑制し、吸着装置内の温度を均一化するための「廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収方法」を提供すること。【解決手段】 A)吸着装置として内筒及び外筒からなる2重円筒型の吸着装置を使用し、B)内筒に冷却用の水を満たし、外筒に吸着剤を充填して吸着剤層を形成し、C)吸着剤として4〜100オングストロ-ムの孔径をもつ合成ゼオライト及び/又は疏水性シリカゲルを用い、D)これをガス状炭化水素でプレコ-トした後、E)吸着・脱着の操作を行わしめ、かつ、F)吸着・脱着のSwing Time(切り換え時間)を1〜15分に短縮し、しかも、G)脱着時に、バ-ジしながら同時に真空を併用する手段を採用すること。

Claim (excerpt)：

単塔式ないしは多塔式の吸着装置を用いて廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素を処理・回収する方法において、(1) 前記吸着装置として、冷却水循環用内筒及び吸着剤充填用外筒からなる2重円筒型の吸着装置を用い、(2) 該吸着剤充填用外筒内に、孔径:4〜100オングストロ-ムの合成ゼオライト及び/又は疏水性シリカゲルの単独又は混合物を充填した、ガス状炭化水素でプレコ-トしてなる吸着剤層を形成し、(3) 該吸着剤層に対する吸着・脱着の切り換え時間を1〜15分とし、かつ、(4) 脱着時に、該吸着剤層から排出されるクリ-ンなガスの一部及び/又は空気でパ-ジしながら同時に真空を併用し、(5) 該パ-ジ排ガスからガス状炭化水素を回収する、ことを特徴とする廃棄ガスに含まれるガス状炭化水素の処理・回収方法。

IPC (5)：

B01D 53/72 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/18

FI (5)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/04 E ,  B01J 20/10 D ,  B01J 20/18 B ,  B01D 53/34 ZAB